“x射线光波，波长十纳米到一皮米。”
“理论上而言，x光将是下一代光刻机的光源，但是x光拥有一个无法克服的问题，那就是它的穿透力极强。”“简单一点解释，就是曝光过度。
“它可以穿过现有的光刻胶，直接对晶圆进行深度曝光，从而造成光刻失败。
“大家可以简单的理解，为就是刻刀过于锋利。
“光刻的过程，就是利用曝光，化学腐蚀，在晶圆表面雕刻出来纳米级的细小的凹凸结构。”
“然后在这些结构当中，填充金属离子，组成一个个微不可见的二极管结构。
“刻刀过于锋利，就是指把整个表面都给抹平了，无法雕刻出来这种凹凸结构。
“这是一个非常让人头疼的问题。”
“如果不解决x光穿透力过强，深度曝光的问题，它将无法成为一个合格的光刻机光源。
“而这个问题，最终要归结于光刻胶技术的进步。
“要能制造出来一种更加先进的光刻胶，仅仅薄薄的一层，却能够阻止x光的穿透。
“这其中所包含的技术难度，超乎想象。甚至不比发明一种新一代的光刻机更容易。”
理论上而言，研究这种光刻胶的技术难度过于巨大，不如直接越过x光，研究x光之后的下一代光源:贝塔射
线，作为光刻机光源，更加实际，更加容易。
“事实上，国外机构现在研究的下一代光刻机技术，就是以贝塔射线为光源。”