极紫光的关键点在于什么?
经过一个月的研究，秦凡终于有了自己对极紫光的一种理解。
而这其中，难度最大的，莫过于euvl光源的激发。
所以，极紫外光刻技术，也被称之为euv光刻，是目前全世界范围内，最先进最前沿光刻机使用的一种光刻技术。
而想要达成极紫光刻技术，最重要的一点就是不会产生辐射的光源激发。
经过这段时间的研究，秦凡发现，中性原子和凝聚态物质不会产生euv辐射。
但想要让一-种材料发光，首先需要做到的就是电离，因为极紫外光，只会被多个带正电的离
子束缚的电子产生。
举个例子，一个电子从+3碳离子ev的要求，这样的电子比典型的价电子更紧密地结合。
多价正离子只能存在于高温高密度等离子体中，并且自身会强烈吸收euv。
才是实现极紫光刻技术
的关键。
而且euv光刻与当今使用比较广泛，同属于科技前沿的深紫外光刻有很大不同。
euv可以吸收所有材料中
的euv,因为它接近波长为13.5nm的软x射线。
因此，euv光刻必须在真空中进行，非真空状态，也许就会导致euv光的损失。
这些，就是秦凡这段时间的收获。
也许，相对来说还有很多地方有所缺陷，可开展第--次极紫光刻却也是足够了。